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Top con micro-motivo a pois e design architettonico layering 20% NYLON 20% POLIESTERE 18%

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Description

20% NYLON 20% POLIESTERE 18% VISCOSA

La scollatura definita e le maniche corte creano un equilibrio armonico tra femminilità e raffinatezza

rendendola perfetta per look versatili

Revers classici di media larghezza: equilibrio perfetto tra eleganza e modernità

Colletto classico e design dal gusto raffinato

Top con micro-motivo a pois e design architettonico layering 20% NYLON 20% POLIESTERE 18%Un top dal linguaggio sofisticato, caratterizzato da un micro motivo a pois che introduce ritmo visivo e raffinatezza. Il design architettonico definito da volumi studiati e da un dettaglio asimmetrico che conferisce movimento e identit al capo. Una proposta luxury pensata per un guardaroba contemporaneo attento alla ricerca stilistica e alleleganza espressiva. Micro motivo a pois dal segno raffinato Design architettonico con elemento asimmetrico

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